بررسی خواص فیزیکی و اثر فوتورسانایی نانوساختارهای CuO تهیه شده به روش اکسایش حرارتی

نویسندگان

دانشکده فیزیک، دانشگاه صنعتی شاهرود، شهر شاهرود، استان سمنان

چکیده

لایه های نازک اکسید مس بر روی زیرلایه ITO با استفاده از روش اکسایش حرارتی تهیه شدند. نمونه ها توسط لایه‌ای از مس به روش رونشانی بخار فیزیکی PVD در دو حالت ساخته شدند: در غیاب و حضور لایه چسبنده بر روی زیرلایه. نمونه‌ها با استفاده از تصاویر FESEM، طیف‌سنجی‌های XRD و UV-Vis. مورد مشخصه-یابی قرار گرفتند. دریافتیم در حالی که سطح نمونه ی بدون لایه چسبنده از دانه‌هایی نانومتری پوشیده شده، اما نمونه ی دیگر با لایه ی چسبنده از دانه‌هایی متخلخل و برجسته همراه با ریزدانه‌هایی در حدود nm30 و یا کوچکتر پوشیده شده است. طیف‌های XRD نمونه‌ها حاکی از ساختار بس‌بلوری در فاز مونوکلینیک با جهتگیری‌های ترجیحی 111 و "" 1 ̅"11" می‌باشد. در بین این نمونه‌ها، نمونه ی با لایه چسبنده از شرایط فیزیکی مناسب‌تری ابعاد بلورکی بزرگتر، گاف نواری کوچکتر و جذب نوری بیشتر برخوردار است. سرانجام، اثرفوتورسانایی در ساختار فلز-نیمرسانا-فلز MSM با استفاده از لامپ LED قرمز مورد بررسی قرار گرفت.

کلیدواژه‌ها