تاثیر آهنگ لایه نشانی کاتد آلومینیوم بر عملکرد دیود نور گسیل آلی

شریعتی نیا, فاطمه; فدوی اسلام, محمد رضا

تاثیر آهنگ لایه نشانی کاتد آلومینیوم بر عملکرد دیود نور گسیل آلی

نوع مقاله : مقاله پژوهشی

نویسندگان

دانشکده فیزیک، دانشگاه دامغان، دامغان

چکیده

در این پژوهش، تاثیر آهنگ لایه نشانی کاتد آلومینیوم بر ساختار آن و عملکرد دیود نور گسیل آلی (OLED) با ساختار Glass/ITO/PEDOT:PSS/ALq3/AL بررسی شد. آهنگ لایه نشانی آلومینیوم 1/0، 5/0، 1 و nm/s 2 در نظر گرفته شد. ساختار لایه‌های آلومینیوم توسط پراش پرتو ایکس (XRD)، میکروسکپ الکترونی روبشی گسیل میدانی (FESEM) و میکروسکپ نیروی اتمی (AFM) مطالعه شدند. نتایج مشخصه یابی ساختاری نشان داد که لایه های تهیه شده با آهنگ 1/0 و nm/s 5/0 دارای ساختار بس بلوری مربوط به فاز مکعبی آلومینیوم با قله در راستای صفحه (111) می باشند. ریختار سطح لایه‌ها دانه ای است. همچنین افزایش آهنگ لایه‌نشانی آلومینیوم باعث افزایش اندازه دانه‌ها و زبری سطح آنها می‌شود. مشخصه یابی جریان – ولتاژ دیودها رفتار دیودی آنها را نشان داد. بطور کلی افزایش آهنگ لایه نشانی کاتد سبب کاهش ولتاژ آستانه دیودها می‌شود. طیف سنجی نورگسیلی دیودها نشان داد که افزایش آهنگ لایه نشانی کاتد سبب افزایش شدت نور گسیلی آنها می شود، ولی طوج موج نور گسیلی را تغییر نمی دهد.

کلیدواژه‌ها

20.1001.1.24235628.1402.10.1.7.8

موضوعات

فیزیک

عنوان مقاله [English]

The effect of deposition rate aluminum cathode on the performance of organic light emitting diode

نویسندگان [English]

Fatemeh Shariatiniya
Mohammad Reza Fadavieslam

School of Physics, Damghan University, Damghan

چکیده [English]

In this research, the effect of aluminum cathode deposition rate on its structure and performance of organic light emitting diode (OLED) with Glass/ITO/PEDOT:PSS/ALq3 structure was investigated. The aluminum deposition rate was considered to be 0.1, 0.5, 1 and 2 nm/s. The structure of aluminum films was studied by X-ray diffraction (XRD), field emission scanning electron microscope (FESEM) and atomic force microscope (AFM). The results of structural characterization showed that the films prepared with rates of 0.1 and 0.5 nm/s have polycrystalline structure corresponding to the cubic phase of aluminum with a peak in the direction of the (111) plane. The morphology of the surface of the films is granular. Also, increasing the aluminum deposition rate cause to enhancing the size of grains and their surface roughness. The current-voltage characterization of diodes showed their diode behavior. In general, increasing deposition rate decreases the threshold voltage of the diodes. Light emitting spectroscopy of diodes showed that increasing the deposition rate of cathode cause to enhancing the intensity of their emitted light, but does not change the wavelength of the emitted light.

کلیدواژه‌ها [English]