اثر Co در مغناطو مقاومت نانوساختارهای Ni-Cu/Cu

نویسندگان

گروه فیزیک، دانشگاه پیام نور استان اصفهان

چکیده

چکیده: در این پژوهش چندلایه‌ای‌های Ni-Cu/Cu از الکترولیت تک حمام سولفات/سولفامیت با استفاده از روش الکتروانباشت از دو محلول خالص بدون Co و ناخالص با 2/0 درصد Co در مد گالوانواستات-پتانسیواستات در پتانسیل انباشت بهینه شده‌ Cu تهیه شد. اندازه‌گیری‌های مغناطو مقاومت در دمای اتاق برای چندلایه‌ای‌های Ni-Cu/Cu به عنوان تابعی از ضخامت لایه‌ غیرمغناطیس Cu برای هر دو الکترولیت خالص و ناخالص انجام شد. منحنی‌های مغناطو مقاومت حاکی از مغناطو مقاومت ناهمسانگرد برای چندلایه‌ای‌ها در الکترولیت خالص و مغناطو مقاومت بزرگ برای چندلایه‌ای‌ها در الکترولیت ناخالص بود، طوری که بیشینه‌‌ی مقدار مغناطو مقاومت برای چندلایه‌ای Ni-Cu/Cu با ضخامت nm2/4/nm3 به دست آمد. بررسی ساختاری چندلایه‌ای‌ها توسط الگوی پراش اشعه‌ی ایکس انجام شد. الگوی پراش اشعه‌ی ایکس حضور قله‌های ماهواره‌ای که دلالت بر وجود ساختار ابرشبکه‌ای بود را تأیید کرد. ضخامت اسمی چندلایه‌ای ها nominalΛ با ضخامت حاصل از الگوی پراش اشعه ایکس XRDΛ مقایسه شد که همخوانی قابل توجهی داشت. مورفولوژی نمونه‌ها با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی انجام شد که دلالت بر یکنواختی انباشت در حین فرایند لایه‌نشانی داشت. در نهایت مغناطش نمونه‌ها نیز با استفاده از مغناطوسنج نمونه مرتعش بررسی شد. نتایج نشان داد با کاهش ضخامت لایه‌ی غیرمغناطیس Cu وادارندگی کاهش و مغناطش اشباع افزایش می‌یابد.

کلیدواژه‌ها